Reactive Magnetron Sputtering
Stueber, Michael (Editor); Wong, Ming-Show (Editor); Schneider, Jochen M. (Editor); Matthews, Allan (Editor)
Amsterdam [u.a.] : Elsevier Science (2020)
Buch
In: Surface and coatings technology
Band: 390
Seite(n)/Artikel-Nr.: 125355-126378
Identifikationsnummern
- RWTH PUBLICATIONS: RWTH-2020-09559