Influence of Ar and N-2 Pressure on Plasma Chemistry, Ion Energy, and Thin Film Composition During Filtered Arc Deposition From Ti3SiC2 Cathodes

Eriksson, Anders O. (Corresponding author); Mraz, Stanislav (Corresponding author); Jensen, Jens (Corresponding author); Hultman, Lars (Corresponding author); Zhirkov, Igor (Corresponding author); Schneider, Jochen M. (Corresponding author); Rosen, Johanna (Corresponding author)

New York, NY : IEEE (2014)
Fachzeitschriftenartikel

In: IEEE transactions on plasma science
Band: 42
Heft: 11
Seite(n)/Artikel-Nr.: 3498-3507

Einrichtungen

  • Fachgruppe für Materialwissenschaft und Werkstofftechnik [520000]
  • Lehrstuhl für Werkstoffchemie [521110]

Identifikationsnummern