Bimodal substrate biasing to control gamma-Al2O3 deposition during reactive magnetron sputtering

Prenzel, Marina (Corresponding author); Kortmann, Annika; Stein, Adrian; von Keudell, Achim; Nahif, Farwah; Schneider, Jochen M.

Melville, NY : American Institute of Physics, AIP [u.a.] (2013)
Fachzeitschriftenartikel

In: Journal of applied physics
Band: 114
Heft: 11
Seite(n)/Artikel-Nr.: 113301

Einrichtungen

  • Fachgruppe für Materialwissenschaft und Werkstofftechnik [520000]
  • Lehrstuhl für Werkstoffchemie [521110]

Identifikationsnummern