Formation of crystalline γ-Al2O3 induced by variable substrate biasing during reactive magnetron sputtering

Prenzel, M. (Corresponding author); Kortmann, A.; von Keudell, A.; Nahif, F.; Schneider, Jochen M.; Shihab, M.; Brinkmann, R. P.

Bristol : IOP Publ. [u.a.] (2013)
Fachzeitschriftenartikel

In: Journal of physics / D, Applied physics
Band: 46
Heft: 8
Seite(n)/Artikel-Nr.: 084004

Einrichtungen

  • Fachgruppe für Materialwissenschaft und Werkstofftechnik [520000]
  • Lehrstuhl für Werkstoffchemie [521110]

Identifikationsnummern