Plasma-enhanced CVD of (Ti,Al)N films from chloridic precursors in a DC glow discharge

Prange, R.; Cremer, Rainer; Neuschutz, Dieter

Amsterdam : Elsevier, [u.a.] (2000)
Beitrag zu einem Tagungsband, Fachzeitschriftenartikel

In: Surface & coatings technology
Band: 133/134
Seite(n)/Artikel-Nr.: 208-214

Einrichtungen

  • [ama191]
  • Lehrstuhl für Werkstoffchemie [521110]
  • Fachgruppe für Materialwissenschaft und Werkstofftechnik [520000]

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