CVD of Al2O3 thin films using aluminum tri-isopropoxide

Blittersdorf, S.; Bahlawane, Naoufal; Kohse-Höinghaus, Katharina; Atakan, Burak; Müller, J.

Weinheim : Wiley-VCH (2003)
Fachzeitschriftenartikel

In: Chemical vapor deposition : CVD
Band: 9
Heft: 4
Seite(n)/Artikel-Nr.: 194-198

Einrichtungen

  • Lehrstuhl für Werkstoffchemie [521110]
  • Fachgruppe für Materialwissenschaft und Werkstofftechnik [520000]

Identifikationsnummern