Influence of the normalized ion flux on the constitution of alumina films deposited by plasma-assisted chemical vapor deposition

Kurapov, Denis; Reiss, Jennifer; Trinh, David H.; Hultman, Lars; Schneider, Jochen M.

New York, NY : American Institute of Physics (2007)
Fachzeitschriftenartikel

In: Journal of vacuum science & technology / A, Vacuum, surfaces, & films
Band: 25
Heft: 4
Seite(n)/Artikel-Nr.: 831-836

Einrichtungen

  • Lehrstuhl für Werkstoffchemie [521110]
  • Fachgruppe für Materialwissenschaft und Werkstofftechnik [520000]

Identifikationsnummern