Effect of ion irradiation during deposition on the structure of alumina thin films grown by plasma assisted chemical vapour deposition

Kyrylov, Oleksandr; Kurapov, D.; Schneider, Jochen M.

Berlin [u.a.] : Springer (2005)
Fachzeitschriftenartikel

In: Applied physics / A, Materials science & processing
Band: 80
Heft: 8
Seite(n)/Artikel-Nr.: 1657-1660

Einrichtungen

  • Lehrstuhl für Werkstoffchemie [521110]
  • Fachgruppe für Materialwissenschaft und Werkstofftechnik [520000]

Identifikationsnummern