Use of Auger- and photoelectron lines in the identification of chemical states of novel ternary Ti-Al-O films prepared by reactive magnetron sputtering ion plating

von Richthofen, A.; Cremer, R.; Domnick, R.; Neuschütz, D.

Amsterdam [u.a.] : Elsevier (1998)
Fachzeitschriftenartikel

In: Thin solid films
Band: 315
Seite(n)/Artikel-Nr.: 66-66

Einrichtungen

  • Lehrstuhl für Werkstoffchemie [521110]
  • Fachgruppe für Materialwissenschaft und Werkstofftechnik [520000]

Identifikationsnummern