The physical reason for the apparently low deposition rate during high-power pulsed magnetron sputtering

Emmerlich, Jens; Mráz, Stanislav; Snyders, Rony; Jiang, Kaiyun; Schneider, Jochen M.

Kidlington : Elsevier Science (2008)
Fachzeitschriftenartikel

In: Vacuum
Band: 82
Heft: 8
Seite(n)/Artikel-Nr.: 867-870

Einrichtungen

  • Lehrstuhl für Werkstoffchemie [521110]
  • Fachgruppe für Materialwissenschaft und Werkstofftechnik [520000]

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