Measurement of the retarding effect of HCI on the rate of CVD of titaniumdiboride

Yu, C.-H.; Zimmermann, E.; Neuschütz, D.

Pennington, NJ : Electrochemical Society (2000)
Buchbeitrag, Beitrag zu einem Tagungsband

In: Proceedings of the 15. International Symposium on Chemical Vapor Deposition ; CVD XV / International Symposium on Chemical Vapor Deposition <15, 2000, Toronto> / Allendorf, M. D. [u.a.] Hrsg
Seite(n)/Artikel-Nr.: 341-348

Einrichtungen

  • Lehrstuhl für Werkstoffchemie [521110]
  • Fachgruppe für Materialwissenschaft und Werkstofftechnik [520000]

Identifikationsnummern