Influence of gas phase composition and discharge voltage on the deposition of TiAIN films by plasma-enhanced CVD

Prange, R.; Neuschütz, D.

Prague (1999)
Beitrag zu einem Tagungsband

In: Proceedings / 14. International Symposium on Plasma Chemistry : 2.-6.8.1999, [Prague, Czech Republic / Institute of Plasma Physics, Academy of Sciences of the Czech Republic] ; [International Union of Pure and Applied Chemistry]. ISPC / Hrabovsky, M. [u.a.] Hrsg
Seite(n)/Artikel-Nr.: 1463-1468

Einrichtungen

  • Lehrstuhl für Werkstoffchemie [521110]
  • Fachgruppe für Materialwissenschaft und Werkstofftechnik [520000]

Identifikationsnummern